Японская компания Dai Nippon Printing революционизирует процесс нанолитографии

Компания Dai Nippon Printing из Японии сделала шаг вперед в области нанолитографии, предложив более экономичную альтернативу устаревшей фотолитографии, которая сейчас доминирует на рынке полупроводников. По информации Nikkei Asia, нидерландская ASML занимает до 90% рынка оборудования для производства чипов, применяя фотолитографию с использованием мощных УФ-лазеров, что требует значительных энергозатрат и ведет к высоким ценам на оборудование. Новая технология от Dai Nippon Printing меняет правила игры, так как она использует метод отпечатывания схем на кремниевых пластинах, что ранее считалось невозможным для чипов с узлом менее 2 нанометров. Инженеры компании разработали специальный материал, позволяющий создать детализированные структуры, а оборудование Canon помогает достигнуть размеров до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле фотолитографии. Ведущие производители, включая Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, проявляют интерес к этой технологии, а Kioxia уже начала тестовое производство. Если испытания пройдут успешно, массовое внедрение ожидается в 2027-2028 годах.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: