Институт физики микроструктур Российской академии наук разработал дорожную карту, направленную на создание отечественных установок для экстремальной ультрафиолетовой литографии. Ожидается, что самые современные машины, способные производить процессоры и однокристальные системы с техпроцессом 10 нм и меньше, появятся в течение следующего десятилетия. В отличие от литографов компании ASML, российские устройства будут использовать альтернативные технологии, включая гибридные твердотельные лазеры и источники света на основе ксеноновой плазмы, что позволит значительно снизить загрязнение фотошаблонов и, как следствие, затраты на обслуживание. Дорожная карта включает три этапа: первый — создание литографа для 40 нм (2026–2028), второй — разработка сканера для 14 нм (2029–2032), третий — система для чипов с разрешением менее 10 нм (2033–2036). Каждое новое поколение будет отличаться улучшенной оптикой и повышенной эффективностью сканирования, при этом стоимость будет ниже, чем у аналогичных систем ASML.
0
Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Вам также может быть интересно
Покупка авиабилета или бронирование отеля сегодня занимают несколько минут. Но именно скорость оформления иногда
Выбор сводится к трём параметрам: маршрут, тип судна и время отправления. Для первого раза
Типичный месячный доход девушки в эскорте при регулярной занятости — от 600 000 до
Стоимость услуги зависит от четырёх основных факторов: формата встречи (аутколл или инколл), продолжительности, времени
Ведение кадрового учёта и расчёт заработной платы — одна из самых трудоёмких задач для
Офисное пространство сегодня перестало быть статичной конструкцией. Оно живет, меняется, реагирует на задачи бизнеса.