В Зеленограде состоялась презентация нового оборудования, разработанного местными научно-исследовательскими институтами НИИМЭ и НИИТМ, которое предназначено для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ) микросхем. В мире данными технологиями владеют лишь пять компаний. Инвестиции в проект составили 2,5 миллиарда рублей, включая средства, полученные от Минпромторга, и собственные вложения НИИМЭ.
Разработанное оборудование позволит выпускать интегральные микросхемы на пластинах 200 мм и 300 мм, что обеспечивает гибкость в производственных процессах. Оно предназначено для сокращения себестоимости и повышения качества чипов. Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов отметил, что это событие знаменует собой шаг к технологической независимости российской микроэлектроники.
Производители намерены искать покупателей как на внутреннем, так и на международном рынках, с перспективой презентации в Китае в следующем году. Михаил Бирюков, генеральный директор НИИТМ, сообщил, что производство одного комплекта оборудования займет около 1,5 лет.