С 2026 года в России начинается создание литографа для чипов с топологией 90 нм. Об этом сообщил Василий Шпак, заместитель министра промышленности, на научно-технической конференции в марте 2026 года. Исполнитель проекта будет выбран через конкурс, а его разработкой займётся Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) вместе с белорусским предприятием «Планар», которое уже работало над литографами 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗТНЦ Анатолий Ковалёв пока не определился с участием в конкурсе. В ноябре 2026 года планируется завершение разработки 130-нанометрового степпера. Как отметил эксперт Дмитрий Пшиченко, создание нового литографа может занять от пяти до десяти лет и потребует значительных инвестиций. Однако локализация технологий позволит сократить сроки до четырёх лет. Ожидается, что модернизированный литограф на 130 нм сможет обеспечивать производство чипов 90 нм.
0
Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Вам также может быть интересно
Покупка авиабилета или бронирование отеля сегодня занимают несколько минут. Но именно скорость оформления иногда
Выбор сводится к трём параметрам: маршрут, тип судна и время отправления. Для первого раза
Типичный месячный доход девушки в эскорте при регулярной занятости — от 600 000 до
Стоимость услуги зависит от четырёх основных факторов: формата встречи (аутколл или инколл), продолжительности, времени
Ведение кадрового учёта и расчёт заработной платы — одна из самых трудоёмких задач для
Офисное пространство сегодня перестало быть статичной конструкцией. Оно живет, меняется, реагирует на задачи бизнеса.