В России начинается разработка первого литографа на 90 нм

Согласно сообщению, озвученному заместителем министра промышленности России в конце марта, в 2026 году в стране стартует создание первого литографа, работающего по технологии 90 нм. На данный момент уже разработан литограф на 350 нм, а также завершаются работы над 130-нм машиной. Этот шаг является частью программы импортозамещения, начатой в 2022 году, и поможет обеспечить потребности в таком уровне технологий, как 90 нм, предназначенном для формирования микросхем, которые не требуют предельной производительности, таких как чипы для интернета вещей, автоэлектроники и других устройств. Стратегическая задача Зеленоградского нанотехнологического центра состоит в освоении нового оборудования и снижении затрат на производство микросхем. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил о заключенных контрактах на поставку новых машин и о продолжающейся отработке технологий с клиентами. Ожидается, что к 2030 году также будут разработаны литографы на 65 и 28 нм.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: