Китайские усилия в микроэлектронике: вызовы и достижения

Полупроводниковые технологии проникают во все сферы жизни, от смартфонов до медицинских приборов. Для создания мощных микросхем необходимы литографические машины, работающие с экстримальным ультрафиолетом, однако, Китай по-прежнему сталкивается с дефицитом ключевых технологий и оборудования. Литографические системы, производимые зарубежными компаниями, требуют многолетнего сотрудничества и высокой точности, что невозможно осуществить одним предприятием. Российские компании SMEE уже производят машины для чипов на 28 нм, но для перехода на экстремальное ультрафиолетовое излучение требуется новый уровень технологий. При этом, торговые ограничения затрудняют доступ к важным компонентам, что тормозит процесс интеграции. Тем не менее, усилия по импортозамещению активизируются, а к 2027 году планируется увеличить долю отечественных компонентов до 70%, что может привести к значительным улучшениям в ближайшие годы.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: