Исследователи из Китая представили настольный источник экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения для литографического процесса, что стало значительным достижением на пути к национальной самодостаточности в производстве микрочипов. Сообщается, что новая установка способна создавать микросхемы с топологическим узлом 14 нанометров. Хотя этот источник не является заменой для машин ASML, его можно использовать для небольших партий производства чипов. Благодаря использованию фемтосекундного лазера на газе аргон, система не требует массивных зеркал, что упрощает конструкцию. Несмотря на низкое потребление энергии, новое устройство демонстрирует высокую яркость на единицу площади, что делает его полезным для проверки фотошаблонов и исследований. Размер установки в несколько раз меньше традиционных машин ASML, что в сочетании с низкой стоимостью делает её важной для Китая в условиях ограниченного доступа к современному оборудованию.
0
Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Вам также может быть интересно
Покупка авиабилета или бронирование отеля сегодня занимают несколько минут. Но именно скорость оформления иногда
Выбор сводится к трём параметрам: маршрут, тип судна и время отправления. Для первого раза
Типичный месячный доход девушки в эскорте при регулярной занятости — от 600 000 до
Стоимость услуги зависит от четырёх основных факторов: формата встречи (аутколл или инколл), продолжительности, времени
Ведение кадрового учёта и расчёт заработной платы — одна из самых трудоёмких задач для
Офисное пространство сегодня перестало быть статичной конструкцией. Оно живет, меняется, реагирует на задачи бизнеса.