В ответ на международные экспортные ограничения, китайские производители полупроводников приступили к модернизации своего оборудования от ASML, чтобы ускорить разработку чипов для искусственного интеллекта. Как сообщает Financial Times, фабрики, специализирующиеся на производстве современных смартфонов и ИИ-чипов, увеличивают эффективность глубоких ультрафиолетовых литографических машин (DUV) от нидерландской компании ASML.
В результате американских и нидерландских экспортных контролей, ASML не может поставлять свои самые современные DUV-системы в Китай, вынуждая местные фабрики использовать устаревшие модели, такие как Twinscan NXT:1980i, для производства необходимых 7-нм чипов. По информации инсайдеров, китайские заводы обращаются к вторичному рынку за компонентами, такими как механические платформы и линзы, для улучшения точности производства.
Компании, такие как Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) и Huawei, активно используют старые машины для создания 7-нм линий. Эти действия подчеркивают находчивость китайских чипмейкеров в условиях ограничений на экспорт. ASML заявила о строгом соблюдении всех законов, подчеркивая, что не поддерживает модернизацию, превышающую законные рамки.