Китай разработал прототип литографа для чипов

Китайская полупроводниковая индустрия сообщила о создании первого прототипа установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV), что стало важным шагом вперед. Эта технология, прежде всего принадлежавшая голландской компании ASML, является ключевой для производства высококлассных процессоров. США пытались воспрепятствовать её передаче в Китай, однако новые данные свидетельствуют о заметном прогрессе китайских инженеров. В последние годы компании, такие как SMIC, прилагали усилия к воспроизводству технологии ASML, используя специалистов и занимаясь обратным проектированием. Для этого применялись устаревшие компоненты оборудования ASML. Несмотря на то, что Китай ещё не начал серийное производство чипов с EUV, источники утверждают, что страна планирует достичь массового производства к 2030 году. Этот прорыв происходит на фоне ожесточенной технологической гонки между США и Китаем, особенно в свете развития искусственного интеллекта. В то же время Huawei и SMIC активно развивают производственные мощности в стране. Литографические машины EUV являются результатом многолетних глобальных исследований, использующих мощные лазеры для создания схем с невероятной точностью.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: