ASML анонсировала новую литографическую технологию

Компания ASML продемонстрировала инновационную технологию, способную значительно увеличить объёмы производства чипов, хотя реального применения стоит ожидать не ранее конца десятилетия. По прогнозам, к 2030 году клиенты компании смогут обрабатывать до 330 кремниевых пластин в час на каждой машине, что на 50% больше нынешних показателей в 220 пластин. Это стало возможным благодаря повышению мощности литографических машин до 1000 Вт, что более чем на 50% превышает мощность текущего инструмента NXE:3800E. ASML также отмечает, что уже видит перспективы достижения 1500 Вт, и не исключает возможности увеличения до 2000 Вт. Современные EUV-сканеры компании используют инновационный метод, при котором лазерные импульсы воздействуют на капли олова, что позволяет достигать мощности 600 Вт, а в лабораторных условиях — 740 Вт. Для реализации 1000 Вт ASML удвоила количество капель до 100 000 в секунду и применила две последовательности лазеров. Новая технология должна появиться в машинах ASML примерно к 2030 году или чуть позже.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: